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Ermöglicht fortschrittliche Materialforschung für dünne Schichten und Oberflächen: zerstörungsfrei, flexibel und schnell

  • Hochsensibel durch ein fortschrittliches elektronisches Detektionssystem

  • Maßgeschneiderte Laser und Optiken für bis zu 4 verschiedene Wellenlängen

  • Untersuchung von Ladungstrennungsprozessen und elektronischen Übergängen (Defekten)

Materialien

Si SiC Ge GaAs Ga₂O₃ InP Diamond and more

Eigenschaften & Vorteile

355-1550 nm

Verfügbare Wellenlängen

10 ns

Zeitauflösung

0,1 mm

Räumliche Auflösung

< 5 min

Durchsatz für 8-Zoll-Wafer

< 5 min

Durchsatz für 8-Zoll-Wafer

  • Empfindlichkeit: Empfindlichkeit im Sub-mV-Bereich und eine Signalauflösung von mehr als drei Größenordnungen

  • Messgeschwindigkeit: < 5 Minuten für einen 150-mm-Wafer mit 1 mm Auflösung

  • Zeitauflösung: 10 ns bis 100 ms

  • Optikkopf: Bis zu 4 Lichtquellen, die in den Optikkopf integriert sind, oder Halterung für die Montage externer Laser – integrierte Streulichtunterdrückung

  • Zuverlässigkeit: modulares und kompaktes Tischgerät für hohe Zuverlässigkeit und eine Betriebszeit von > 99 %

Flexibles Mapping-Tool für F&E und Produktionsüberwachung

Die Produktplattform HR-SPSmap baut auf der bewährten Grundlage der weithin anerkannten MDPmap-Serie auf. Dieses kompakte, kontaktlose Tischgerät zur elektrischen Charakterisierung wurde speziell für die Offline-Produktionskontrolle sowie für Forschungs- und Entwicklungsanwendungen entwickelt. Es misst die Oberflächen-Photospannung (SPV) über einen breiten Injektionsbereich und eignet sich sowohl für die stationäre als auch für die Kurzpuls-Anregung. Dank automatischer Probenerkennung und Parametereinstellung passt es sich mühelos an eine Vielzahl von Proben an, darunter Epitaxieschichten und Wafer in verschiedenen Verarbeitungsstadien – vom frisch gewachsenen Material bis hin zu fertig hergestellten Bauelementen.

Außergewöhnliche Flexibilität und fortschrittliche Funktionen

Einer der herausragenden Vorteile des HR-SPSmap ist seine außergewöhnliche Flexibilität. Ausgestattet mit Anregungsquellen mit fester Energie unterstützt das System die Integration von bis zu vier Lasern im Messkopf. Diese Fähigkeit ermöglicht SPV-Messungen in Abhängigkeit vom Injektionspegel über einen weiten Bereich, von sehr niedrigen bis zu hohen Injektionspegeln, sowie Tiefenprofilierungen unter Verwendung verschiedener Laserwellenlängen. Das System verfügt zudem über eine Bias-Light-Funktion für erweiterte Messoptionen.

Darüber hinaus unterstützt das HR-SPSmap benutzerdefinierte Berechnungen und Mapping-Konfigurationen sowie die Möglichkeit, Primärdaten für detaillierte externe Analysen zu exportieren. Für Standard-Messaufgaben bietet die Plattform ein vordefiniertes Rezeptursystem, mit dem Routinemessungen per Knopfdruck durchgeführt werden können.

Präzision und Anpassungsfähigkeit

Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und seinem benutzerfreundlichen Design ist das HR-SPS die ideale Lösung für Forscher und Produktionsteams, die hochpräzise Oberflächen-Photospannungsmessungen benötigen. Ob für Innovationen in Forschung und Entwicklung oder für eine zuverlässige Produktionsüberwachung – diese Plattform setzt neue Maßstäbe in Sachen Flexibilität und Effizienz bei der elektrischen Charakterisierung.

Interesse? Unsere Experten unterstützen Sie gern.

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Technische Daten

ProbengrößePulverproben mit einem Durchmesser von bis zu 300 mm
AnregungAuswahl von bis zu vier verschiedenen Wellenlängen von 337 nm bis 1550 nm (Standard 980 nm)
Materialjedes photoaktive Material (kontaktieren Sie uns für eine Beratung zu Ihrem Material)
MessbarZeitaufgelöste Messungen der Oberflächen-Photospannung
Abmessungen680 x 380 x 450 mm, Gewicht: ca. 65 kg
Stromversorgung100–250 V, 50/60 Hz, 5 A
Auflösung100 µm

Zubehör & Konfigurationsmöglichkeiten

Unsere Geräte bieten vielseitige Konfigurationsmöglichkeiten, um spezifische Anforderungen effektiv zu erfüllen. Jedes Modell kann individuell angepasst werden, um maximale Flexibilität und Effizienz zu gewährleisten.

Kontaktieren Sie uns für weitere Informationen

  • Breites Spektrum an Laserlichtquellen von 337 nm bis 1550 nm

  • Integrierter Heiztisch (20–250 °C)

  • Variation der Spotgröße

  • Hintergrundbeleuchtung

  • Messung des spezifischen Widerstands (Wafer)

  • Referenzwafer (Si)

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Zögern Sie nicht, uns zu kontaktieren – wir stehen Ihnen bei allen Fragen und Anliegen gerne zur Verfügung.

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sales@freiberginstruments.com