您在寻找什么?
可使现有设备满足 200 mm、300 mm 硅锭高端晶向偏差与定位Notch精度指标要求
可让现有设备达到高端晶向偏差与定位Notch精度规格要求
全产线适配型晶圆晶向分布在线mapping检测方案
适用于高速晶体晶向检测、量产工况下晶体定位校准、品质管控、摇摆曲线测试、材料科研等多种场景。
整机结构紧凑,可从底面完成超高速晶体晶向检测
超快端面测量晶体取向,采用紧凑型封装
全自动在线式晶锭、晶棒与硅片坯定向及上下料处理系统
全自动晶圆、种子晶圆和单晶棒质量控制与分选多功能计量设备
石英棒、晶片和坯料的生产与质量控制
该产品即将推出
高精度电阻率Mapping系统 精准实现材料分析
超越极限的精度:面向电阻率测量的下一代太赫兹Mapping技术
高精度少子寿命表征,检测灵敏度出众
简易快速完成少子寿命检测
多功能定制化设备,用于测量硅样品(从硅砖到加工晶片)的少子寿命
用于半导体质量控制和材料研发的先进寿命测量系统
先进的单晶硅锭、硅砖和硅片质量控制解决方案
变温少子寿命测试系统,用于高端材料分析
高精度变温少子寿命测试系统,用于材料精准表征
高端高温少子寿命测试系统,用于深度材料性能分析
基于热释电效应测定晶体表面极性便携式检测系统
高分辨率、高灵敏度的表面光电电压测量解决方案
配备可调能量激发光源
专为集成到手套箱中而设计,可加热至 100°C,高分辨率,高灵敏度表面电压测量
宽波段双棱镜单色仪
专为智能生产环境设计的GWh级电池化成与测试方案
中试规模电池化成与测试:智能、测量驱动的过程控制
集成传感 + 先进充电控制,打造测量驱动的智能化电池化成
双面 PERC/PERC+、HIT、Topcon、晶体硅太阳能电池、迷你模块等的质量控制解决方案
超高灵敏度 TL/OSL 测量仪
业界领先 TL/OSL 测量仪
便携式OSL读数仪,可高效读取与擦除适配的个人辐射剂量计
业界领先的个人剂量OSL系统
Freiberg Instruments新型热释光测量仪
非破坏性释光 岩芯剖面分析新方法
符合 EN 13751:2009 标准,可用于辐照食品检测
台式X射线辐照机
用于CTA读出的PC控制式剂量测量设备,符合ISO/ASTM标准及FDA CFR 21第11部分规定
用于极端工况下高精度吸附测量的磁悬浮天平
全自动高灵敏度拉曼传感器,用于聚合物与半导体分选
辐射污染监测仪
用于运输容器测量的空间分辨探测器杆
高量程剂量率仪
便携式设备,配备 50 mm PIPS 探测器,浓度计算符合 ISO 11929 标准
伽马辐射监测仪
应用于高掺杂半导体
在高掺杂半导体中测量电阻率至关重要,主要体现在以下几个方面:
质量控制与掺杂浓度验证
器件性能预判
提取迁移率、载流子浓度等材料参数
工艺开发(如离子注入)及掺杂模型的模拟
检测污染、工艺漂移、不均匀性及缺陷(如SiC中的生长小面)
用于 SiC 的激光切割工艺
因此,对于先进半导体应用而言,测量的精度与重复性至关重要。
Freiberg Instruments 的 RESmap 可对各类高掺杂材料(Si、SiC 等)实现高精度Mapping,测量范围覆盖 1~100 mΩ·cm。得益于内置的距离传感器、温度传感器以及高灵敏测量探头,其重复性表现卓越(σ < 0.15%)。这款紧凑型测量探头不仅可作为手持工具使用,还支持配备机械手实现全自动化,亦可直接集成至生产线。
图1展示了SiC原生晶圆的电阻率Mapping示例,边缘剔除约为5mm。
众所周知,电阻率的测量值不仅受样品温度影响,也与环境温度密切相关。因此,测量探头内集成了两个温度传感器。图2展示了在厚SiC晶锭(>1mm)上进行的1000次重复测量结果。 每次测量后探头返回初始位置,整个过程耗时约6小时。在此期间环境温度发生了变化,该测试很好地验证了温度补偿算法的有效性。采用此温度补偿算法,重复性 σ<0.15%。
图 1:SiC晶圆电阻率Mapping图示例
在碳化硅(SiC)冷激光切割工艺中,晶体取向同样至关重要。Freiberg Instruments提供一系列快速、精准的晶体取向测量方案,可根据您的工艺需求灵活定制。敬请关注我们的XRD解决方案。
图 2:1000次重复测量,每次测试后探头回归初始位置,有温度补偿σ < 0.15%与无温度补偿σ < 0.21%
图 3:6 英寸晶棒进行 5mm 间距全域扫描,分多日、不同时段共计测试 18 次,σ=0.15%。
图 4:动态温度漂移测试--将样品置于低温区域,在其升温过程中完成检测,实验时长约 10 分钟。
了解更多
欢迎随时联系我们——我们将竭诚为您解答任何疑问或处理您的请求。
请使用我们的咨询工具,或通过电子邮件联系我们:sales@freiberginstruments.com.cn
所有标有“*”的字段必须填写。